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氮化硅陶瓷的制备与性能解密:从反应烧结到热压工艺的深度剖析

日期:2025-07-11 浏览:104

氮化硅陶瓷的制备与性能解密:从反应烧结到热压工艺的深度剖析

氮化硅(Si₃N₄)陶瓷因其独特的强共价键结构,展现出优异的高温强度、硬度、耐磨性及化学稳定性,在众多严苛工况下成为不可或缺的关键材料。然而,也正是这种牢固的化学键合特性,使其烧结致密化变得异常困难,从而催生了多样化的制备工艺。每一种工艺路线,都代表着在成本、性能与成型复杂度之间的一种权衡。

本文将深入探讨两种主流的氮化硅制品制备技术——反应烧结法(RBSN)与热压烧结法(HPSN),并结合具体性能数据,揭示不同工艺路径如何塑造材料的最终特性。

反应烧结(RBSN):原位合成的成本效益之路

反应烧结法是一种极具成本效益的工艺,其核心思想在于将成型与化学反应合二为一。该方法通常以精细的金属硅粉(例如,粒径小于150目)为主要原料,辅以氧化铝(Al₂O₃)或氧化镁(MgO)等助烧剂,并加入少量增塑剂以改善成型性能。

通过机压、挤压、浇注或等静压等技术将混合料制备成具有预定形状的坯体后,将其置于氮气气氛保护的电炉中进行加热。在高温下,固态的硅与气态的氮发生原位反应,生成Si₃N₄,并在此过程中实现颗粒间的键合与烧结。


图:Si₃N₄反应烧结工艺流程示意

此工艺的一个变种,是以预合成的Si₃N₄粉末作为骨料,再混入金属硅粉作为基质粘结相。坯体成型后,在1400-1500°C的氮气气氛中烧成,金属硅转化为Si₃N₄,将骨料颗粒牢固地结合在一起。

反应烧结法的优势在于烧结过程体积收缩极小,易于制造尺寸精确的复杂形状部件。然而,由于反应转化可能不完全,最终制品中通常会残留一定量的未反应硅和较高的气孔率(通常在15-20%),这在一定程度上限制了其力学性能的上限。

表1:部分反应结合氮化硅基复合材料性能参考

体系组成 添加剂 质量比/% 密度/(g/cm³) 气孔率/% 抗折强度/MPa (常温) 抗热震性 (ΔT/°C, 水冷)
Si₃N₄-Al₂O₃ Al₂O₃ 5 2.50 18.0 187 -
Si₃N₄-Al₂O₃ Al₂O₃ 10 2.53 20.0 145 900
Si₃N₄-Al₂O₃ Al₂O₃ 30 2.55 18.8 100 970
Si₃N₄-Si Si 5 2.55 16.0 187 -
Si₃N₄-Si₃N₄ Si₃N₄ 15 2.53 14.0 170 870
Si₃N₄-Si₃N₄ Si₃N₄ 30 2.54 13.5 150 915
OTM-911 - - 2.45~2.60 18.7~19.0 147~205 1100~1200

注:数据源于早期文献,仅供趋势参考。

热压烧结(HPSN):追求极致性能的致密化路径

当应用场景对材料的密度和力学性能提出更为苛刻的要求时,热压烧结法则成为首选。与反应烧结不同,热压法采用预先通过化学方法合成的高纯Si₃N₄粉末作为原料。

为了打破Si₃N₄自身烧结的动力学壁垒,工艺中必须加入少量能够形成液相或促进扩散的烧结助剂,常见的有氧化镁(MgO)、氧化钇(Y₂O₃)、氧化铝(Al₂O₃)等。这些添加物在高温下与Si₃N₄表面的二氧化硅层反应,形成低熔点的玻璃相,极大地促进了颗粒的重排和致密化。

热压过程在专用的热压炉中进行,通常使用涂有氮化硼(BN)脱模剂的石墨模具。在通入氮气保护的同时,对样品施加高达25-50 MPa的机械压力,并加热至1760-1850°C。压力和液相的协同作用,使得制品能够达到接近理论的密度,从而获得卓越的力学性能。

表2:添加不同助剂的热压Si₃N₄性能对比

添加剂 添加量/% 热压温度/°C 热压压力/MPa 体积密度/(g/cm³) 抗折强度/MPa (20°C) 抗折强度/MPa (1300°C)
MgO 5 1650 28 3.13 700 210
AlPO₄ 5 1650 28 - 560 350
Y₂O₃ 2 1700 45 3.20 - -
ZnO 5 1740 28 3.20 455 -

从表中可见,助剂的种类和用量对材料的高温性能影响显著。例如,某些助剂虽然能有效提升常温强度,但形成的玻璃相在高温下软化,会导致材料高温强度急剧下降。因此,如何精确选择和控制助剂,是优化热压氮化硅性能的关键技术点。

性能标杆:工业级氮化硅制品的性能版图

通过对工艺的精细调控,商业化的氮化硅产品已经可以提供覆盖不同应用需求的性能组合。以日本东芝公司早期公布的一系列TSN牌号氮化硅材料为例,我们可以清晰地看到性能参数的差异化分布。

表3:东芝公司TSN系列Si₃N₄制品主要性能

材料牌号 密度/(g/cm³) 硬度 (HV) 抗折强度/MPa (常温) 抗折强度/MPa (1000°C) 抗折强度/MPa (1200°C) 弹性模量/GPa 断裂韧性 KIC/(MPa·m1/2) 热导率/(W/(m·K)) 线膨胀系数/(10-6/°C) 安全使用温度/°C
TSN-01 3.16 1800 900 900 600 330 5~6 29 3.2 1200
TSN-02 3.21 1800 1050 950 650 320 5~6 29 3.2 1200
TSN-03 3.22 1500 950 750 450 290 6~7 20 3.4 1000
TSN-04 3.22 1600 950 850 750 290 6~7 24 3.4 1200
TSN-05 3.20 1400 700 600 400 290 5-6 22 3.4 1000
TSN-08 3.26 1700 1000 900 850 290 6~7 24 3.4 1000
TSN-09 3.20 1500 800 600 400 360 6~7 20 3.4 1000

这些数据清晰地表明,通过调整配方和工艺,可以得到侧重点各不相同的材料。例如,TSN-02在保持高硬度的同时实现了超过1000 MPa的常温抗折强度,而TSN-03则牺牲了部分硬度和高温强度,换取了更高的断裂韧性。这种性能上的细微差别,直接决定了材料的最终应用场景。要确保最终产品能够稳定达到设计指标,依赖于对原材料、工艺参数和最终性能之间关联的深刻理解与严格控制。这正是专业检测实验室的核心价值所在。

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应用领域:苛刻环境下的性能担当

氮化硅陶瓷的独特性能组合,使其在多个工业领域中扮演着关键角色:

  • 化工与冶金: 在硫酸工业的沸腾炉净化系统中,其耐腐蚀和耐磨性使其成为文丘里衬套的理想选择。在轻金属熔炼中,它被用作测温热电偶的保护管,能有效抵抗熔融金属的侵蚀。
  • 机械与动力: 高硬度和低摩擦系数使其成为酸泵、磁力泵、高压泵及压缩机中精密密封环的优质材料。
  • 采矿与选矿: 在水力旋流器等重度磨损设备中,用作沉沙口的氮化硅部件,其寿命远超传统金属材料。
  • 高温结构件: 凡是要求耐高温、耐磨损、抗热震的场合,如特种炉衬材料和各种非标零部件,都能看到氮化硅的身影。

总而言之,从低成本的反应烧结到高性能的热压烧结,氮化硅陶瓷的制备工艺选择直接决定了其性能边界和应用领域。对研发工程师和品控经理而言,深刻理解不同工艺路径的利弊,并借助可靠的性能检测手段来验证和优化材料,是成功应用这种高性能陶瓷的基石。

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